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X射線熒光分析的基礎(chǔ)和重要的儀器性能
更新時間：2021-05-21 點擊次數(shù)：2284次
在過去，X射線熒光分析（XRF）主要用于地質(zhì)學(xué)。如今，它已成為工業(yè)和實驗室的關(guān)鍵技術(shù)。這種方法非常通用：它可以檢測從鈉到鈾的所有相關(guān)化學(xué)元素
XRF通常用于材料分析，即確定樣品中給定物質(zhì)的含量，如測量珠寶中的黃金含量或根據(jù)《有害物質(zhì)限制》（RoHS）指令檢測日常物品中的有害物質(zhì)。此外，可以使用XRF測量鍍層的厚度：它快速、環(huán)保且無損。
這就是測量是如何進行的
當X射線設(shè)備開始測量時，X射線管會發(fā)出高能輻射，這也被稱為‘初級’輻射。當這些X射線擊中樣品中的一個原子時，它們會增加能量–即它們“激發(fā)”原子 - 使原子向其原子核附近發(fā)射電子，這個過程被稱為“電離”。由于這種狀態(tài)是不穩(wěn)定的，一個來自更高電子層的電子移動來填充空隙，從而發(fā)射出“熒光”輻射。
這種二次輻射的能量水平類似指紋一樣：它是每個元素的特征。探測器接收熒光并將信號數(shù)字化。在信號經(jīng)過處理后，設(shè)備產(chǎn)生一個光譜：檢測到的光子的能級在x軸上繪制，其頻率（計數(shù)率）在y軸上繪制。樣品中的元素可以從光譜中波峰的位置（x軸方向）來識別。這些峰的水平（y軸方向）提供了有關(guān)元素濃度的信息。
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